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    光纖光譜儀廠家產品應用于各個領域的生產過程控制

  • 發布日期:2018-12-08      瀏覽次數:716
    •    光纖光譜儀廠家產品應用于各個領域的生產過程控制
        
        光纖光譜儀廠家介紹其測量原理:
        
        輻射/發光測量可以使用不同的實驗裝置和在不同的波長范圍來進行,如余弦校正器、準直透鏡或積分球,光譜范圍可以是紫外/可見波段,也可以是可見/近紅外波段。輻射測量可以用于測量發光光源,比如太陽或者燈源,也可以用于測量反射光,比如地面或者水面的反射光。如果要進行輻射測量(單位:μW/cm2.nm),可以先對整個光譜儀系統進行輻射定標(定標整個光譜儀系統,而非單個光譜儀)
        
        光纖光譜儀廠家廣泛應用于冶金、鑄造、機械、金屬加工、汽車制造、有色、航空航天、兵器、化工等領域的生產過程控制,中心實驗室成品檢驗等,可用于Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb等多種金屬及其合金樣品分析。
        
        光纖光譜儀廠家詳細操作:
        
        1、拆機
        
       ?。?)打開激發臺門,取下防護板。然后擰松緊固電極的黑色旋鈕,將電極壓下去或t者小心取出。
        
       ?。?)擰松激發臺的兩個固定螺絲,將激發臺與光路接口部分小心拔開。
        
       ?。?)取出石英杯及兩個O型環,用酒精、脫脂棉或醫用紗布將激發臺、石英杯、電極底座、O型環、電極依次擦干凈。如果激發臺里臟得厲害,可以先用吸塵器吸,然后再擦。
        
       ?。?)將石英杯、O型環放回原處,.固定好激發臺。
        
       ?。?)將電極裝回原處,用電極量規調整好電極與激發臺面的距離。
        
       ?。?)擰緊緊固電極的黑色旋鈕。
        
        2、擦透鏡
        
       ?。?)按清理激發臺火花室的操作將激發臺取出,將激發臺檔板里側的光路開關由開的位置(Open)用手完全撥到關的位置(Close)。
        
       ?。?)將激發臺檔板內側透鏡的加熱xian卡子小心用手取下
        
       ?。?)用手小心將光路部分向外拔出。不要過分彎曲附在光路通道上的細銅管。(必須小)心,緩慢)。
        
       ?。?)擰松透鏡底部的兩個固定黃銅螺絲,以便松開鎖緊夾。
        
       ?。?)順時針方向將紅色刻花球形柄擰幾扣,能看到將透鏡頂出來,然后將透鏡底座的兩個開口部分與夾頭黃銅螺絲對齊,大約轉動1/8圈,小心取出透鏡(帶底座),同時在取透鏡時還要小心不要被燙到。用綢布蘸取酒精小心擦拭,注意不要用硬物擦傷碰透鏡。
        
       ?。?)擦完透鏡后,先將透鏡裝回原位,注意將透鏡底座的兩個開口部分對準黃銅螺絲,并且紅色的球形柄要反時針擰幾扣,使它的螺絲頭面低于透鏡底座或保持在同一平面,否則透鏡裝不合適。
        
       ?。?)裝上透鏡后,將透鏡底座的兩個開口位置與黃色螺絲錯開位置,并擰緊黃色螺絲夾頭,此時透鏡的位置與先前取下的透鏡加熱導線卡子是比較垂直的。
        
       ?。?)把光路開關由關Close完全撥到開Open的位置,然后把光路部分小心裝上。
        
       ?。?)按順序將激發臺及火花室部分裝好。后別忘記用量規調整電極的距離,當透鏡清理干凈后,別再用手指觸及他的表面。
        
        光纖光譜儀廠家應用的詳細介紹:
        
        1、發射光譜測量
        
        發射光譜測量可以用不同的實驗布局和波長范圍來實現,還要用到余弦校正器或積分球。發射光譜測量可以在紫外/可見和可見/近紅外波長范圍內測量。
        
        對于發射光譜的測量,光譜儀可以配置成波長范圍從200-400nm或350-1100nm,或組合起來實現紫外/可見200-1100nm,并可以在定標實驗室里進行輻射定標。定標后的實驗布局不能改變,如光纖和勻光器都不能更改。
        
        2、LED測量
        
        簡單而且迅速地測量LED的整個光通量的方法就是使用一個積分球,并把它連接到一個光譜儀上。該系統可以用鹵素燈進行定標(LS-1-CAL-INT),然后用測量到的光譜分布計算出相關參數,并實現輻射量的測量。所測光源的光譜發光強度還可以用μW/cm2/nm來計算、顯示并存儲。另外的窗口還可以顯示大約10個參數:輻射量μW/cm2,μJ/cm2,μW或μJ;光通量lux或lumen,色軸X,Y,Z,x,y,z,u,v和色溫。
        
        3、薄膜厚度測量
        
        光學的膜厚測量系統基于白光干涉測量原理,可以測量的膜層厚度10nm-50μm,分辨率為1nm。薄膜測量在半導體晶片生長過程中經常被用到,因為等離子體刻蝕和淀積過程需要監控;其它應用如在金屬和玻璃材料基底上鍍透明光學膜層也需要測量膜層厚度。
        
        

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